ANALYTIK JENA_ MÁY QUANG PHỔ PHÁT XẠ PLASMA ICP OES ĐỘ
PHÂN GIẢI CAO
Model: PlasmaQuant 9000
Hãng sản xuất: Analytik Jena – Đức
Xuất xứ: Đức
Tham khảo tại: http://www.analytik-jena.de/en/analytical-instrumentation/products/optical-emission-spectrometry.html
1.
Cung cấp bao gồm:
-
Máy chính với bộ phụ kiện chuẩn
-
Bộ làm lạnh
-
Bộ lấy mẫu tự động
-
Máy tính – Máy in
-
Chụp hút khí thải
-
Bình khí Ar và valve
-
Van điều áp 02 cấp
-
Bộ lưu điện UPS Online 10 KVA
-
Dung dịch chuẩn
(15 nguyên tố phổ biến)
2.
Tính năng và thông số kỹ thuật:
2.1 Thông tin chung:
-
Hệ thống quang phổ phát xạ plasma mảng (Array) phân giải
cao thiết kế nhỏ gọn. Phân tích đa nguyên tố với hệ quang học Echelle có độ
phân giải cao, được đều khiển hoàn toàn bằng máy tính, cùng với bơm mẫu tự động
(lựa chọn thêm)
2.2 Hệ quang học độ phân giải cao:
-
Hệ quang học được thiết kế nhỏ gọn và được gắn chắc trên
tấm đế
-
Hệ thống quang học được phủ lớp bảo vệ và được bảo hành
10 năm theo tiêu chuẩn của nhà sản xuất.
-
Hệ quang học được đóng kín và dòng khí Argon để loại bỏ
không khí, các hạt bụi và độ ẩm trên đường dẫn quang học
-
Bộ đơn sắc đôi Echelle độ phân giải cao được chọn lọc trước
để giảm thiểu ánh sáng tán xạ.
-
Lăng kính thạch anh chắn trước bộ đơn sắc.
2.3 Phổ kế độ phân cao:
-
Ánh sáng đơn sắc đi vào được cài đặc từ 5 khe, khe trung
gian được cố định.
-
Độ dài tiêu cự : 400 mm
-
Dòng khí Argon làm sạch quay lại theo hình nón cho độ
nhạy cao axialplasma
-
Độ chính xác và độ ổn định chất phân tích có bước sóng
< 0.4 pm để đều chỉnh bước sóng hoàn toàn tự động theo chuẩn.
-
Hệ quang học không yêu cầu bất kỳ sự đều nhiệt nào
-
Khoảng bước sóng: 160 - 900 nm
-
Độ chính xác bước sóng < 0.4 pm
-
Độ phân giải phổ: 0.002 nm tại 200 nm
-
Độ phân giải: 1:145,000
-
Cách tử: Cách tử Echelle với góc ngọn lửa nhỏ (760)
2.4 Bộ ghi tín hiệu Dual View PLUS:
-
Bộ ghi tín hiệu
plasma Dual View PLUS thể hiện 2+2
-
Xuyên tâm PLUS – giảm cường độ phổ mở rộng hơn nữa dải
tuyến tính
-
Dọc Trục PLUS – Giảm độ nhạy của và kéo dài độ tuyến tính
dải nồng độ
-
Chuyển đổi giữa
các chế độ view plasma bằng việc chuyển hệ quang tăng năng suất
2.5 Detector:
-
Đầu dò CCD với công nghệ làm lạnh Peltier hiệu quả cao, bước
sóng UV tăng độ nhạy cao, làm giảm thời gian hoạt động
-
Tự động chọn thời gian tối ưu trong phạm vi đo lường
khoảng 6 bậc
-
Thời gian đọc 1 ms - 10 s
-
Chế độ nhập tín hiệu khác nhau cho giới hạn phát hiện tốt
nhất, đánh giá đa dòng và chế độ quét tổng quát.
2.6 V Shuttle torch:
-
Là phụ kiện dễ dàng thay thế lau chùi cho hệ thống lấy
mẫu
-
Plasma theo dạng dọc cải thiện khả năng nhiễu nền phức
tạp lượng có nồng độ muối mẫu cao (như
mẫu: dầu, muối hoặc kim loại trong vật liệu)
2.7 Hình dạng plasma:
-
Torch hình dạng dọc tránh quá trình tắc nghẽn và hình
thành muội than.
-
Độ chính xác (RSD), giá trị mẫu trắng và khoảng mẫu được
phân tích mà không cần tiền xử lý mẫu.
2.8 Torch:
-
Torch dễ dàng tháo lắp với các ống bên trong và bên ngoài
tách biệt.
-
Nguồn bơm mẫu cho nhiều ứng dụng khác
-
Việc lắp đặt và bảo trì ống Torch đơn giản dễ dàng
-
Khóa liên động cải thiện độ an toàn và kết nối với các
ống thủy tinh tự do.
-
Tự động kết nối các vị trí của Torch để đảm bảo độ chính
xác.
-
Ống Torch được kéo rộng ngăn chặn các nhánh phân tử
2.9 Bộ phun sương:
-
Ống phun sương trong phạm vi đồng tâm để trao đổi nhanh
EasyFit
-
Lựa chọn thêm cho mẫu có nồng độ muối cao, cho dòng khí
thấp và cho việc xử dụng HF
2.10 Buồng phun:
-
Buồng phun bằng thủy tinh cho dạng sol khí cao và giảm
thời gian rửa
-
Lựa chọn thêm cho sử dụng HF, buồng phun làm mát hoặc hòa
tan.
2.11 Bơm nhu động:
-
Bơm nhu động kết cấu 12 con lăn với áp lực tiếp xúc đều
chỉnh cho mẫu đồng nhất
-
Bơm nhu động 4 kênh cho sự kinh hoạt tối đa
2.12 Điều khiển khí:
-
Hộp khí đều khiển hoàn toàn tự động cho việc đều khiển
dòng plasma tối đa (MFC), bộ phụ trợ và bộ phun sương dạng khí.
-
Khí Argon tinh khiết ≥4.6, 4 - 6 bar
-
Việc đều khiển dòng plasma (MFC) cho việc bổ sung chính
xác và an toàn khí (Cho các ứng dụng
trong dầu mỏ)
-
Tất cả các dòng khí có thể được thiết lập bằng máy tính.
2.13 Máy phát cao tần:
-
Máy phát cao tần chạy tự do 40 MHz cung cấp công suất
dòng plasma dài ổn định và độ lặp lại thiết bị cao.
-
Công suất nguồn thay đổi trong khoãng 700 - 1700 W giúp tăng
khả năng ứng dụng.
-
Khí được làm mát bằng bốn cuộn cảm ứng chuyển năng lượng
cho dòng plasma hiệu quả phụ thuộc vào nền mẫu.
2.14 Phụ kiện đi kèm:
+ Bơm mẫu tự động.
-
Hệ thống đưa mẫu tự động theo trục xyz hoạt động liên tục
trên 129 mẫu.
-
Hai giá đỡ tiêu chuẩn cho hiệu chuẩn hoặc dung dịch tham
chiếu.
-
Trên 3 khay mẫu cho các mẫu có thể tích mẫu khác nhau
-
Kích thướt: 510 x 280 x 490 mm, 15 kg
+ Hệ thống tự kiểm tra:
Cảm biến theo dỏi liên tục
-
Đều khiển áp lực khí và tốc độ dòng chảy
-
Nhiệt độ và tác nhân làm mát cho dòng chảy
-
(đóng/mở) cánh cửa của torch
-
Tốc độ ống xả được khai thác
-
Vị trí ống torch hình chữ V
-
Áp suất khí được lọc trong phổ kế
-
Mật độ dòng plasma được ổn định được bảo vệ bằng thủy
tinh
-
Tắt máy phun sương để bảo vệ torch V
-
Nguồn phát cao tần cao tự tắt máy
+ Phần mềm Aspect PQ.
Gói phần mềm hoạt động được đều khiển bằng máy tính, giám
sát dữ liệu của tất cả các quá trình trên thiết bị và phụ kiện của thiết bị,
giao diện người dùng đa ngôn ngữ và tối ưu hóa cho người xử dụng.
. Phương pháp:
-
Được mặc định cho mỗi nguyên tố được tích hợp
-
Thư viên phổ cho các ứng dụng ưa thích
-
Lựa chọn tự do cho tất cả dòng plasma và bao gồm các tham
số plasma và chế độ tích hợp tín hiệu.
-
lựa chọn tự do cho các dòng tiêu chuẩn nội bộ
-
Giám sát quá trình hoạt động như tự động đánh lửa plasma,
tắt máy trong chuổi hoạt động
-
Hoạt động ở nhiều chế độ khác nhau và phát triển phương
pháp.
. Đánh giá phổ:
-
Hiệu chỉnh nền dạng cơ bản zero, 1st, 2nd or 3rd đa thức
-
Tự động chỉnh nền dạng cơ bản (ABC) để giảm đáng kể xử lý
dữ liệu
-
Nhận dạng đường tuyến tính
-
IEC
-
Công cụ đánh giá phổ , loại bỏ nhiễu
. Hiệu chuẩn:
-
Nhiều chế độ lựa chọn cho hiệu chuẩn: tuyến tính và phi
tuyến tính và phù hợp với nhiễu nền.
-
Lựa chọn trên 30 điểm chuẩn
-
Hai điểm chuẩn lại
3.
Thông số khác:
+ Đảm bảo kiểm soát chất lượng:
- Kiểm soát chất lượng bằng biểu đồ và các tham số được lưa
chọn.
+ Thống kê số liệu khoa học:
- Hoạt động thống kê số liệu khác nhau cho mẫu và mẫu
chuẩn.
- Tính toán khoảng tin cậy cho các giá trị mẫu và các
chức năng hiệu chuẩn.
+ Thông số kỹ thuật khác:
- Kích thước: 987
x 937 x 765 mm (W x H x D)
- Trọng lượng: 170 kg
+ Đều kiện môi trường.
- Nhiệt độ +150C đến 350C
- Độ ẩm 20 - 90 % tại 300C
- Không ngưng tụ khí, tránh khí ăn mòn
- Khí thải 5.5 m3/min
+ Nguồn điện yêu cầu:
-
230 V (±10%); 50/60 Hz, cầu chì 35 A 4,600 VA
4.
Máy tính và máy in
Cấu hình máy tính:
Main: GIGABYTE (GA-G41MT S2PT)
CPU: Intel Core2 Duo-E6550 (2.33Ghz) - Tray
Ram: DDRAM III 2GB - Bus 1333 - Kingmax
HDD: Western 250GB SATA3 - BLUE
Case: MV 871
Cung cấp kèm theo:
Chuột, bàn phím, màn hình LCD 17”
Cấu hình máy in:
In Laser trắng đen khổ A4, độ phân giải 600 dpi, USB2.0,
Bộ nhớ: 8Mb. Tốc độ in: 18ppm, Wireless.
5.
Chụp hút khí thải và ống dẫn khí.
Xuất xứ: Việt Nam
-
Tiếng ồn nhỏ
-
Làm bằng vật liệu chịu nhiệt, acid.
-
Hình dáng thiết kế đẹp
6. Bộ phận cung cấp khí
- Bình khí Argon và valve đều áp
7. Bộ UPS 10 KVA online
Bảo hành 12 tháng, bảo trì 6 tháng/lần trong thời gian
bảo hành
8. Valve khóa khí 2 cấp
9. Dung dịch chuẩn
10. ĐÀO TẠO – BẢO TRÌ:
Hướng dẫn sử dụng và đào tạo:
- Đào tạo: Đào tạo sử dụng
thiết bị và phân tích dựa trên mẫu thật với 15 chỉ tiêu kim loại trên.
Bảo hành:
- Bảo hành hệ quang 10 năm cho
máy chính theo tiêu chuẩn của nhà sản xuất
-
Bảo hành 18 năm đối với các bộ phận và thiết bị hỗ trợ còn lại theo tiêu chuẩn
của nhà sản xuất
Bảo trì:
- Bảo trì miễn phí 02 năm
sau khi hết hạn bảo hành máy chính
Không có nhận xét nào:
Đăng nhận xét